1、碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統(tǒng)出現故障時或加酸系統(tǒng)出現而導致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來，應盡早發(fā)現碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發(fā)現碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

注：應確保任何清洗液的PH不要低于2.0，盃則可能會純水設備RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，高的PH不應高于11.0。

查使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。

2、硫酸鈣垢

清洗液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

純水設備

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專業(yè)水處理的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與水處理專業(yè)公司聯系。

5、有機沉積物

有機沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經認可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理，請與水處理專業(yè)公司會商以確定適宜的殺菌劑。

6、清洗液

清洗純水設備反滲透膜元件時建議采用水處理專用的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。

名稱欄目：純水設備反滲透膜常見污染物去除方法
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