一、集成電路超純水設(shè)備系統(tǒng)概述

集成電路超純水設(shè)備系統(tǒng)常用于工業(yè)中半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。隨著集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

超純水設(shè)備

二、集成電路超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

1.半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

2.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

3.電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4.顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

5. 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

6.液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

7.晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

8.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10.高品質(zhì)顯像管、熒光粉生產(chǎn)

11.半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

12.超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

13.汽車、家電表面拋光處理

14.光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

三、集成電路用超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

四、集成電路超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程

集成電路超純水設(shè)備系統(tǒng)采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm

1、采用離子交換方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)

2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)

3、采用EDI方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)

新聞名稱：集成電路用超純水設(shè)備系統(tǒng)概述
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