在濃水循環(huán)箱內(nèi)配制50升2.5%濃度的HCL溶液(50L去離子水，3500ml37%分析純HCL溶液，注意先加水后加酸)，開啟濃水泵循環(huán)清洗3分鐘(濃水壓力控制在0.1Mpa以下)，然后停泵用清洗液浸泡15分鐘，再開啟泵循環(huán)5分鐘。最后排放清洗液，用去離子水沖洗殘留的清洗液。

EDI膜塊的再生過程：在清洗、停機(jī)或膜塊電壓過低(或被關(guān)閉)時(shí)，膜塊內(nèi)部的樹脂可能會被離子消耗盡，這時(shí)候模塊需要再生。再生過程將樹脂中多余的離子帶出膜塊，使膜塊在穩(wěn)定狀態(tài)下運(yùn)行。再生過程在短時(shí)間內(nèi)大幅度地改變系統(tǒng)參數(shù)，將樹脂中多余的離子帶出膜塊，給水離子濃度會降低，電場驅(qū)動力將增加，多余的離子將從淡水室遷移到濃水室。再生方法：啟動EDI系統(tǒng)，使淡水流量、濃水流量控制有日常流量的一半，極水流量不變，將電流設(shè)置為通常的150%-200%。在運(yùn)行1個(gè)小時(shí)后，將流量和電流恢復(fù)到日常值上(這一點(diǎn)非常重要)。注意：無論何時(shí)電流不能大于6A。

文章題目：EDI超純水設(shè)備濃水側(cè)結(jié)垢酸清洗方法
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